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      東莞市鼎偉新材料有限公司專業(yè)生產：鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等；公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽能企業(yè)當中，以較高的性價比，成功發(fā)替代了國外進口產品，頗受用戶好評。
      


      

      

      



      

      鎳鉑合金靶材
      

      時間：2025-05-22瀏覽數：318
      

      

      

       鎳鉑合金靶材：精密鍍膜的關鍵材料
       
       在真空鍍膜領域，鎳鉑合金靶材憑借其獨特的物理化學特性，成為制備高端功能薄膜的核心材料。
      這種由鎳和鉑按特定比例熔煉而成的合金，通過磁控濺射工藝能在基材表面形成致密均勻的薄膜，在半導體、光學器件等領域展現出不可替代的價值。
       
       鎳鉑合金靶材的制備需要精確控制鉑含量在5-20%之間，采用真空感應熔煉結合精密軋制技術。
      這種配比使材料兼具鎳的延展性和鉑的化學穩(wěn)定性，晶粒尺寸可控制在10微米以下。
      在濺射過程中，合金靶材表現出優(yōu)異的濺射速率穩(wěn)定性，每小時的沉積速率波動不超過3%，這對保證薄膜厚度一致性至關重要。
       
       實際應用中發(fā)現，鎳鉑合金薄膜的電阻率可低至15μΩ·cm，抗氧化溫度高達600℃。
      某研究機構測試數據顯示，采用這種靶材制備的薄膜在85℃/85%RH環(huán)境下經過1000小時老化后，導電性能衰減不足5%。
      這些特性使其特別適合制作高可靠性電子元件的導電層，如MLCC電極、觸摸屏感應線路等。
       
       值得注意的是，鎳鉑合金靶材的使用需要配套優(yōu)化工藝參數。
      當濺射功率超過8W/cm2時，薄膜應力會明顯增加；而將工作氣壓控制在0.3-0.5Pa范圍內，可獲得較佳的膜層附著力。
      這些經驗參數對保證鍍膜質量具有重要指導意義，也是發(fā)揮材料性能的關鍵所在。

      http://www.hihfyor.com.cn

      


      

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