東莞市鼎偉新材料有限公司專業(yè)生產(chǎn)：鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等；公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名電子、太陽(yáng)能企業(yè)當(dāng)中，以較高的性價(jià)比，成功發(fā)替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。

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高純鉻靶的目標(biāo)雜質(zhì)控制

時(shí)間：2021-04-16瀏覽數(shù)：2293

高純鉻靶的目標(biāo)雜質(zhì)控制：如果靶中的夾雜物數(shù)量過(guò)多，則在濺射過(guò)程中可能在晶片上形成顆粒，從而導(dǎo)致互連線短路或斷開，這將嚴(yán)重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數(shù)夾雜物是在冶煉和鑄造過(guò)程中形成的，主要由氧化物組成，但也包括氮化物，碳化物，氫化物，硫化物，硅化物等，因此應(yīng)在冶煉和鑄造過(guò)程中使用。坩堝，內(nèi)部流道，鑄模等由還原性材料制成，在澆鑄之前，應(yīng)將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。通常，它們?cè)谡婵栈驘o(wú)氧環(huán)境中熔融并澆鑄。鉻靶批發(fā)、鉻靶價(jià)格在市場(chǎng)也是不一樣的。